微弧氧化技术是将铝、镁、钛等有色金属及其合金置于特殊的电解液中，利用特殊的电源设备在该材料表面微孔中产生微弧放电，在热化学、电化学、等离子化学的共同作用下，在材料表面原位产生陶瓷层的表面处理技术。由于微弧氧化技术具有工艺简单、无污染等特点，膜层具有耐磨、耐蚀、耐高温等优异特点外，还可以根据不同的要求，制备出具有装饰、磁电屏蔽、电绝缘等功能性膜层，因此，该技术已成为国际材料研究的热点之一，日益受到人们的重视。
一、微弧氧化的技术原理与特点
微弧氧化或微等离子体表面陶瓷化技术,是指在普通阳极氧化的基础上，利用弧光放电增强并激活在阳极上发生的反应，从而在以铝、钛、镁金属及其合金为材料的工件表面形成优质的强化陶瓷膜的方法，是通过用专用的微弧氧化电源在工件上施加电压，使工件表面的金属与电解质溶液相互作用，在工件表面形成微弧放电，在高温、电场等因素的作用下，金属表面形成陶瓷膜，达到工件表面强化的目的。微弧氧化技术的突出特点是：（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，显微硬度在1000至2000HV，最高可达3000HV，可与硬质合金相媲美，大大超过热处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度；（2）良好的耐磨损性能；（3）良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点，因此该技术有广阔的应用前景；（4）有良好的绝缘性能，绝缘电阻可达100MΩ。（5）溶液为环保型，符合环保排放要求。（6）工艺稳定可靠,设备简单.(7)反应在常温下进行，操作方便，易于掌握。（8）基体原位生长陶瓷膜，结合牢固,陶瓷膜致密均匀。
二、微弧氧化技术工艺流程及参数
1. 微弧氧化技术工艺流程
铝基材的前处理、微弧氧化、后处理。
其流程如下：铝基工件→化学除油→清洗→微弧氧化→清洗→后处理→检验包装。
2. 电解液组成与工艺条件
（1）参数一：电解液组成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～ 3g/L， Na3VO3 1～3g/L；溶液 pH 为 11～13；温度 20～50℃；阴极材料为不锈钢板；电解方式为先将电压迅速上升至 300V，并保持 5～10s，然后将阳极氧化电压上升至 450V，电解5～10min。
（2）:参数二：两步电解法，第一步：将铝基工件在 200g/L 的 K2O·nSiO2水溶液中以 1A/dm2 的阳极电流氧化5min；第二步：将经第一步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/L 的Na3P2O7 水溶液中以 1A/dm2 的阳极电流氧化 15min。阴极材料为：不锈钢板；溶液温度为 20～50℃。
三、微弧氧化的设备
(1)输入电源：采用三项380V电压。
(2)微弧氧化电源:因电压要求较高(一般在510—700V之间)，需专门定制。通常配备硅变压器。
电源输出电压：0—750V可调.电源输出最大电流：5A、10A、30A、50A、100A等可选。
(3)微弧氧化槽及配套设施
槽体可选用PP、PVC等材质，外套不锈钢加固。可外加冷却设施或
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